KT-Z1650PVD是一款小型新款磁控濺射儀小型臺(tái)式濺射功率可控磁控濺射儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)，樣品高度調(diào)節(jié)，及電動(dòng)擋板功能。通過定時(shí)調(diào)節(jié)預(yù)濺射功率及薄膜沉積功率，可對大部分金屬進(jìn)行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜。

針對市場上其它型號(hào)我們做如下改進(jìn)

1 腔體擴(kuò)充口可增加擴(kuò)展口  大可擴(kuò)展KF40接口方便連接分子泵 或 晶控傳感器

2 樣品可旋轉(zhuǎn) 大轉(zhuǎn)速20轉(zhuǎn)每分鐘 使鍍膜樣品更均勻

3 輕旋轉(zhuǎn)機(jī)械手柄 樣品高度可精細(xì)調(diào)節(jié) 樣品距離靶材距離可到1mm

4 電動(dòng)擋板 使用人機(jī)界面程序控制打開或者關(guān)閉時(shí)間

5 可通過人機(jī)界面手動(dòng)或者使用編程自動(dòng)控制預(yù)濺射（洗靶） 恒定功率輸出  變換功率輸出 定時(shí)打開擋板（時(shí)間單位 秒）關(guān)閉擋板 樣品轉(zhuǎn)速  工藝可存儲(chǔ)  工藝名稱可改 利如 噴金20納米厚

6 腔體上蓋鉸鏈安裝 更換靶材方便操作

7 此產(chǎn)品已申請多項(xiàng)技術(shù) 抄襲請慎重！！！

小型新款磁控濺射儀技術(shù)參數(shù)：