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材料樣品處理
0371-60308298
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操作需謹慎!小型蒸鍍儀操作時需要注意這些
掃描電鏡超導碳黑的特征觀察
PVD制備K型薄膜熱電偶的研究
PVD真空鍍膜技術知識問答
小型蒸鍍儀的操作流程有幾步
1100℃ 1500℃ 高溫真空探針臺溫度穩定±1℃
小型蒸鍍儀特別適合蒸鍍一些輕金屬,如、Al、Mg、和Li等;同時也可對樣品進行鍍碳處理,大可處理的樣品直徑為50mm。
科研實驗室小型高溫樣品鍍膜設備,觸摸屏控制,可調節功率和蒸鍍時間,配有樣品擋板能精確控制鍍膜時間,保護樣品
鈣鈦礦蒸鍍薄膜檢測設備,觸摸屏控制,可調節功率和蒸鍍時間,配有樣品擋板能精確控制鍍膜時間,保護樣品
小型高溫蒸鍍儀鈣鈦礦蒸鍍,觸摸屏控制,可調節功率和蒸鍍時間,配有樣品擋板能精確控制鍍膜時間,保護樣品
小型高溫蒸鍍有機物鍍膜氣相沉積反應設備,觸摸屏控制,可調節功率和蒸鍍時間,配有樣品擋板能精確控制鍍膜時間,保護樣品。
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